|
题名:
|
真空镀膜技术与设备
/
张以忱主编
,
|
|
ISBN:
|
978-7-5024-6638-1
价格：
CNY40.00
|
|
语种:
|
chi
|
|
载体形态:
|
249页
图
26cm
|
|
出版发行:
|
出版地：
北京
出版社：
冶金工业出版社
出版日期：
2014
|
|
内容提要:
|
本书共分9章，系统地阐述了各种真空镀膜技术的基本概念和应用、真空镀膜机结构及蒸发源、磁控靶的设计计算、薄膜厚度的测量技术、薄膜与表面分析与检测技术；重点介绍了一些近年来新出现的镀膜方法与技术及真空镀膜机设计计算等方面的内容。
|
|
主题词:
|
真空技术
镀膜
|
|
中图分类法:
|
TN305.8
版次：
5
|
|
主要责任者:
|
张以忱
主编
|